在晶圆缺陷检测系统定制中,我们近期把重点放在一个容易被低估的问题上:模型在同一台设备上表现良好,换到另一台同型号机台后,检出率往往出现明显回落。原因通常不是算法本身,而是成像条件、光源衰减、载台平整度带来的灰度分布漂移。
我们的实验思路是把「迁移验证」前置到方案设计阶段,而不是交付后再补。具体做法包括:用同一批标准片在两台机台上同步采集,建立跨机台的基准对照集;在特征侧引入与绝对灰度弱相关的描述量(局部对比度、梯度方向直方图、形态学结构),降低对单机成像参数的依赖;再以小样本微调作为兜底,每台机台只需数十片标注即可完成校准。
要点:
1)进展:在 6 台同型号检测机上完成对照验证,跨机台迁移后缺陷检出率差异从最初的约 11 个百分点收窄到 3 个百分点以内,误报率保持稳定。
2)下一步:把跨机台一致性纳入上线验收指标,与检出率、误报率并列,并尝试用无标注晶圆做漂移监测,提前提示光源或光路需要标定。
对产线而言,这意味着模型不只是「在一台机器上准」,而是能在机台群内保持可预期的稳定表现,减少逐台重训的维护成本。

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