计算机视觉实验室近期在探索自监督预训练于工业质检的迁移能力。工业场景标注成本高、缺陷样本稀缺,我们尝试用MAE与DINOv2在无标注产线图像上预训练,再以极少标注微调下游检测头。阶段进展:在5,000张无标注图像上预训练后,线性探针Top-1达78%;仅用每类20张标注微调,缺陷分割F1为92%,接近全监督200张标注的94%。要点:1)自监督特征对光照与纹理变化更鲁棒,但小缺陷仍需高分辨率裁剪;2)下一步计划引入多视角一致性约束与主动学习采样,将标注需求再降30%。该路线不追求通用大模型,而是验证“预训练+小样本”在产线快速换型中的可行性。

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